作為二氧化硅基質的二氧化硅
球
18 年來，SiliCycle 一直致力于硅膠制造，我們在該領域積累了豐富的專業知識和專業知識。此外，為了支持對我們的球形二氧化硅不斷增長的需求，我們為我們所有的 Silia Sphere產品開發了一種優化且高度可控的大規模生產工藝，而不會降低二氧化硅的質量。
顆粒形狀、孔徑和粒徑分布、硅膠純度和表面特性都會對色譜性能產生影響。因此，為了開發最有效的工藝，需要評估和優化所有前面提到的參數，以確保批次間的可重復性。
SiliaSphere由有機形式的硅（烷氧基化物）制成。這確保了非常低的金屬含量，因為起始材料是通過蒸餾提純的。去離子水用于水解硅烷氧基化物。仔細監測和控制引起沉淀的參數可提供具有所需特性的球形硅膠。SiliaSphere產品的特點是金屬含量極低，即使在極端 pH 條件下也具有出色的穩定性。此外，我們的制造工藝可確保所有 Silia Sphere產品在孔徑、表面積、粒徑和形態方面的質量和可重復性。
完美的球形顆粒形狀
Silia Sphere二氧化硅的完美球形，加上光滑的表面，沒有任何裂紋、空腔和細屑，使它們成為色譜填料的首選。掃描電子顯微鏡 ( SEM) 圖片顯示， SiliaSphere 的球形度超過或優于知名品牌的球形硅膠。
窄孔徑分布
使用的正確孔徑與待純化樣品中存在的分子類型有關。通常，對于小分子，建議使用 100 – 120 ? 孔徑。但是，如果需要更高的分辨率，則 60 – 80 ? 將更合適。對于肽和蛋白質等大分子，建議使用 300 ? 或更高。
嚴格的粒度分布
粒度分布的重要性取決于所進行的層析類型。例如，使用 HPLC 時，所用球形顆粒的粒徑分布非常窄是非常重要的。緊密的粒徑分布產生更好的色譜柱性能（分離）、更好的峰形、更低的背壓以及更高的填充穩定性。
SiliaSphere提供市場上最窄的粒徑分布之一。為了評估我們的粒度分布，我們使用 D90/D10 比率。
高表面積和孔體積
我們優化的制造工藝可確保高比表面積，以實現更大的負載能力，并具有均勻且可重現的表面覆蓋率。
低痕量金屬含量和高純度
SiliCycle 的專有技術生產出當今市場上微量金屬含量最低的硅膠之一。我們的低痕量金屬含量可確保您獲得最佳的色譜性能。嚴格控制每批次中的痕量金屬還可以提高重現性并降低金屬與所需化合物之間相互作用的風險。低金屬含量限制了任何不需要的金屬離子溶質相互作用——提供幾乎沒有或沒有拖尾的對稱峰。
為了探測 SiliaSphere二氧化硅中的低金屬含量，我們進行了以下色譜測試，并將我們的產品與知名競爭產品進行了比較。使用 SiliaSphere，您可以放心，峰拖尾或漏峰并非來自我們的硅膠。
1. 甲苯：色譜柱填充效率 => 中性溶質
2. 乙酰乙酰苯胺：金屬含量 => 可與重金屬相互作用導致拖尾或漏峰
3. 兒茶酚：金屬含量 => 可與重金屬相互作用導致拖尾或漏峰
4 . 3-Pyridyl-acetonitrile：二氧化硅的酸性 => 強烈吸附到酸性位點
可擴展性
SiliaSphere可批量供應，適用于各種 HPLC 純化；從實驗室到工廠規模。所有 SiliaSphere產品均在嚴格控制的制造過程中制造，嚴格的質量控制可確保最高質量和可重復性。Silia Sphere二氧化硅的放大非常簡單，性能將在整個粒徑范圍內保持不變。
批間重現性
SiliCycle 致力于高質量標準，始終致力于提供無缺陷的產品和批次間的可重復性。為此，所有產品均在符合 ISO 9001:2008 標準的設施中生產，并接受嚴格的質量控制。每一批次都需要滿足既定規格才能放行。這確保了可靠和可重現的色譜性能。
右圖顯示了根據硫含量以及最后 5 批 SiliaSphere10 μm、120 ? 生產的表面覆蓋率獲得的分子負載結果，這表明產品制造具有很高的可重復性。
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